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新兴相位成像技术在电子束敏感材料中的应用

发布时间:2023-11-26    作者:        来源:       浏览次数:     打印


报 告 人:张辉 教授 华南理工大学

报告时间:2023年11月28日 周二14:30-15:30

地点:三一大楼506

报告摘要:

电子在经过样品电势场后其波函数会发生相位变化,不同的成像方法在一定程度上都可以探知相位变化并推定样品结构。相较于广泛使用的HR-TEM等间接相位成像技术(图像衬度和相位相关但不是相位),以叠层衍射(Ptychography)为代表的新兴相位成像技术直接用相位成像,具有衬度易阐释、电子利用率高、对轻元素敏感等优点,在材料局域结构表征中扮演着越来越重要的角色,更是在电子束敏感材料的结构表征中取得了重要进展。

本报告将介绍Ptychography成像技术在分子筛、黏土矿物、金属碳化物原子尺度显微结构研究中的应用。报告人及合作者在~40nm厚的分子筛中实现了优于1Å的横向分辨率和~6.6nm的纵向分辨率。分子筛中丰富的三维结构信息使我们能更深刻地探究孔道分子构型和纳米畴界面等局域结构。此外还在利蛇纹石、MAX相中首次观察到了氧原子和碳原子。相信随着实验技术和重构算法的进一步成熟,Ptychography会成为我们揭示材料局域结构的又一法宝。

报告人简介:

张辉,华南理工大学电子显微中心和前沿软物质学院教授,国家级海外高层次青年人才。其研究聚焦于碳、氧等轻元素的精确可视化和高分辨率三维成像技术。张辉博士及其合作者从原子尺度的高精度结构表征出发,深入探索了新兴能源/催化材料的构效关系,并研发了原子尺度结构调控新方法。近年来以第一/通讯作者在Science, Nature Materials, Chemical Reviews, Chemistry of Materials等期刊发表20余篇论文。





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